Beim 3D-Druck steckt man immer wieder im Schichtdicken-Dilemma: jede einzelne Schicht, aus der ein Druck aufgebaut wird, benötigt Druckzeit. Je mehr Schichten, desto höher die Druckzeit. Weniger Schichten bedeutet jedoch gleichzeitig dickere Schichten, was wiederum die Druckauflösung und damit die Detailgenauigkeit und Oberflächengüte herabsetzt. Es gibt inzwischen einige Ansätze, mit mehreren Auflösungen zu drucken, beispielsdweise die Außenwände in dünneren Schichten und den Infill nur jede zweite Schicht, aber dafür gröberer Auflösung. Mit seinen neuen Dual-Resolution 3D-Druckern bietet Boston Micro Fabrication (BMF) genau eine solche Lösung im Mikrobereich. Der neue microArch D1025 druckt wahlweise mit einer Auflösung von 10µm oder 25µm oder im Hybridmodus mit beiden Auflösungen – in der gleichen Druckschicht ebenso wie in verschiedenen Schichten.
Im Jahr 2016 brachte BMF seinen ersten 3D-Drucker auf den Markt. Heute unterstützt das Unternehmen bereits über 2000 Kunden weltweit bei der Beschleunigung von Iterationszyklen und der Herstellung präziserer Mikroteile. Der microArch D1025 basiert auf der patentierten Projektionsmikro-Stereolithografie (PµSL) von BMF und bringt eine höhere Effizienz in 3D-Druckprozesse. Ab sofort können Anwender in Bereichen wie Gesundheitswesen, Elektronik, Biowissenschaften oder Photonik zwei verschiedene Auflösungen in einer einzigen Druckschicht kombinieren.
Die PµSL-Technik ermöglicht eine schnelle Fotopolymerisation von Flüssigpolymerschichten durch einen UV-Lichtblitz bei mikroskopischen Auflösungen. Der Auflösungsmodus von 25µm eignet sich für Teile, deren Geometrie keine ultrahohe Auflösung erfordert. Der 10µm Modus optimiert den Druckprozess für kleine, komplexe Merkmale. Darüber hinaus können die Anwender je nach Teilegeometrie einen gesamten Druckaufbau mit 10µm oder 25µm veranlassen. Dies bedeutet höhere Flexibilität und Effizienz bei allen Anwendungen quer durch die Branchen.
„Unsere Innovationen werden von der Motivation getrieben, neue Plattformen zu schaffen, die 3D-Druckanwendungen mit hohem Nutzen realisieren. Unsere Kunden haben uns zunehmend gedrängt, mit unserer Technologie Anwendungen zu ermöglichen, bei denen höhere Präzision und engere Toleranzen die Qualität und Leistung unabhängig von der Bauteilgröße steigern“, sagt John Kawola, CEO Global von BMF. „Mit der Einführung des microArch D1025 setzen wir unser Engagement fort, diese Forderung zu erfüllen. Wir verbinden die Vorteile der 25-µm-Plattform microArch S350 mit Möglichkeiten der hohen Auflösung unseres 10-Mikrometer-Druckers zu einer leistungsstarken, flexiblen Lösung für unsere Kunden.“
Neben der dualen Auflösung bietet der microArch D1025 eine verbesserte, integrierte Automatisierung und einen einfachen Wechsel zwischen den Auflösungsmodi. Dies erhöht die Benutzerfreundlichkeit und spart Zeit, Ressourcen und letztlich Kosten.
Der microArch D1025 wird auf den folgenden Veranstaltungen vorgestellt:
– TCT Asia, Shanghai, 7.-9. Mai, Stand #8F30
– TCT 3Sixty, Birmingham, UK, 5.-6. Juni, Stand #H31
– Rapid + TCT, Los Angeles, 25.-27. Juni, Stand #1139
-Formnext, Frankfurt, 19.-22. November, Halle 11.1, Stand C19
